研磨抛光液可分为研磨液和抛光液一般研磨液用于粗磨，抛光液用于精密磨削半导体行业CMP工艺对抛光液杂质要求苛刻，抛光液所含的化学颗粒是非常细的达到纳米接触研磨粒径，研磨液多为微米粒径研磨液和抛光液整个传输和应用流程都会用到滤芯进行过滤，主要是对研磨液和抛光液中的颗粒进荇过滤除杂
一体式、***方便节约使用成本
